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CN118910593A
CVD方法和系统
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基本信息：
专利标题：
CVD方法和系统
申请号：
CN202411045439.6申请日：
2024-07-31公布(公告)号：
CN118910593A公布(公告)日：
2024-11-08申请人：
北京石墨烯研究院产业发展有限公司
申请人地址：
北京市海淀区翠湖南环路13号院4号楼1至6层101
专利权人：
北京石墨烯研究院产业发展有限公司
当前专利权人：
北京石墨烯研究院产业发展有限公司
当前专利权人地址：
北京市海淀区翠湖南环路13号院4号楼1至6层101
发明人：
许莉
, 王强
, 顾伟
, 邹良宇
代理机构：
北京国之大铭知识产权代理有限公司
代理人：
王玲
主分类号：
C23C16/52
IPC分类号：
C23C16/52
, C23C16/26
, C23C16/54
摘要：
本发明提出了一种CVD方法及系统。所述方法包括以下步骤：步骤(1)：将衬底材料放置在CVD生长区，升温至第一温度，然后通入反应气体，所述反应气体由CVD生长区的一端流向另一端，开始CVD生长；步骤(2)：经过静态生长时间后，将衬底材料以预设速度沿反应气体流动方向的反方向移出CVD生长区；步骤(3)：将全部衬底材料移出CVD生长区，CVD生长结束。一种CVD系统，包括：放样腔：所述衬底材料从所述放样腔中进行放样；传动装置：所述传动装置将所述衬底材料送入或移出所述CVD生长区；进气装置和出气装置：所述进气装置和出气装置分别位于所述CVD生长区的两侧；CVD生长区：进行薄膜或涂层的CVD生长。使用本发明的方法和系统，相比静态工艺可以大幅改善产品表面的均匀性，相比动态工艺可以实现大幅宽衬底材料上的生长，并且极大地提高了生长效率。IPC结构图谱：
C
化学；冶金C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆（纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（作特殊应用者，见有关位置，例如用于电阻器制造入H01C17/06）；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺C23C16/06
.以金属材料的沉积为特征的C23C16/52
..镀覆工艺的控制或调整